|
整機(jī)結(jié)構(gòu)
|
帶load port系統(tǒng)分為前端設(shè)備操作單元、前端EFEM單元及等離子處理單元，前端EFEM系統(tǒng)與等離子體處理單元分體式設(shè)計(jì)
|
|
等離子體源
|
射頻等離子體源或雙頻等離子體源
|
|
反應(yīng)腔室
|
標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)為雙反應(yīng)腔室，可根據(jù)需求定制單反應(yīng)腔室和多反應(yīng)腔室結(jié)構(gòu)
|
|
機(jī)械傳片
|
單臂或雙臂高精度機(jī)械手
|
|
Wafer升降
|
機(jī)械式Wafer pin升降結(jié)構(gòu)，Wafer pin采用特定工藝處理
|
|
前真空泵
|
干式真空泵，根據(jù)安裝位置及工藝不同，選擇100-300m3/h規(guī)格
|
|
高真空真空泵
|
分子泵（水冷或CDA冷卻）
|
|
工藝壓力控制
|
自動調(diào)壓蝶閥
|
|
真空檢測
|
管道真空計(jì)、反應(yīng)腔室全量程真空計(jì)、工藝真空計(jì)、壓差開關(guān)
|
|
工藝氣體種類
|
標(biāo)準(zhǔn)配置高純Ar、N2、O2，可增加其他高純工藝氣體
|
|
氣體流量控制
|
質(zhì)量流量控制器（MFC）
|
|
控制系統(tǒng)
|
基于工業(yè)電腦設(shè)計(jì)開發(fā)的人機(jī)交互系統(tǒng)，系統(tǒng)設(shè)計(jì)人性化、操作簡單
|